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为了避免专利设计侵权,这些专利规避设计技巧你需要了解

发布日期:2018-12-18 作者:赛贝知识产权平台

我们在之前的文章中谈到过专利检索的重要性,其中一项重要作用就是新产品准备投放市场时,为避免新产品侵犯别人的专利权,应选择防止侵权检索,详情可查看《看完这篇文章,你就知道申请专利前进行专利检索是多么有必要》。在申请专利前检索到专利侵权并不可怕,因为这样我们就有时间进行专利规避设计工作,而且此时如果我们的产品还未投入市场,也能很大程度的避免成本损失。


检索


那么什么是专利规避设计呢?专利规避设计是一项源于美国的合法竞争行为。最初专利规避设计只是当做专利系统工作的一种方式,旨在鼓励发明和促进大众文化的进步。SCHECHTER将专利规避设计定义为企业为了避开其他竞争者公司的专利权利要求的阻碍或者袭击而进行的新设计绕道发展的设计过程。


专利规避设计是企业应对专利侵权风险、降低研发费用、快速获取市场的一种有效方式。这种方式在国内外已经流行多年,对专利规避设计这种强调避开专利侵权风险为主要目的的设计方法中,已经形成了大量的实务经验。


由此可见专利规避设计是专利申请前的一项重要工作。那么专利规避设计究竟该如何开展呢?今天赛贝知识产权平台资深专利专家就给大家聊一聊这个话题。


1、利用专利文件本身规避


(1)利用专利文件的背景技术、提出的技术问题以及引证文件进行规避设计:

专利文件的背景技术部分往往会描述一种或多种相关现有技术,并指出它们的不足之处,可以借助于背景技术方案,或通过对背景技术方案进行改进,组合形成新的技术方案来规避侵权专利。这样的专利规避设计利用了专利文件的信息,在此基础上创造出了不侵犯该专利权的规避设计方案,值得注意的是,在此过程中要注意避免对其他涉及的专利构成侵权。


(2)利用专利文件中的具体实施例进行规避设计

一般情况下,专利文件的具体实施方式部分会提供多种实施方案,然而其权利要求却并不一定会完全概括上述这些具体实施方案,这样的话,我们就可以通过寻找权利要求的概括漏洞,找出可以实现发明目的,却未在权利要求中加以概括保护的实施例或通过对这些具体实施方案进行改进,组合形成新的技术方案来规避侵权专利。这种专利规避方式需注意专利权人基于专利布局的考虑可能存在其他侵权的专利申请,要确保已检索完整。


(3)利用禁止反悔原则,借助专利审查相关文件进行规避设计

根据禁止反悔原则,专利权人通过对权利要求、说明书的限缩性修改或者意见陈述的方式放弃的保护范围,在侵犯专利权诉讼中禁止权利人将已放弃的内容重新纳入专利权的保护范围,因此,通过查找专利审查相关文件,获取专利权人放弃的技术方案,这样规避设计就事半功倍了。


2、分析专利权利要求进行再设计


(1)減少至少一个该专利权利要求中的技术特征

分析侵权专利权利要求的保护范围,减少至少一个技术特征进行规避,以与权利要求不同,根据侵权判定全面覆盖原则,不落入专利权的保护范围。


(2)替换至少一个该专利权利要求中的技术特征

分析侵权专利权利要求的保护范围,替换至少一个该专利权利要求中的技术特征进行规避,需要注意的是须考虑这种替换是否会构成“等同特征”替换。等同特征是指与所记载的技术特征以基本相同的手段,实现基本相同的功能,达到基本相同的效果,并且本领域的普通技术人员无须经过创造性劳动就能够联想到的特征。替换包括要素的替代、组合或拆解方式的改变、部件的调换等,替换部分技术特征,可能构成专利侵权,也可能不构成侵权。替换的特征越多,侵权的可能性越小,反之则越大。这是最常见的规避设计,也是最与专利保护范围接近的规避设计。这种方法技术上的难度相对较大,同时也应当把握好规避设计下限的度的问题。


3、利用自由公知技术进行规避设计


自由公知技术,即该技术已超过专利保护期限,或保护该技术的专利申请已失效或可被无效,则采用这种自由公知技术不会有侵权风险,一般情况下,优先选取国外自由公知技术,但需注意的是采用自由公知技术进行规避设计一般较为落后,不太满足研发需求。


4、利用TRIZ理论进行规避设计


上述3个方向的专利规避方法,只是针对目标专利的权利要求内容做一些微调,而TRIZ理论的规避解决方案有可能完全避开原专利,产生一种新的解决问题的方法,其优势不言而喻。 具体地,可参照下述附图流程进行分析,这种规避方式需要对TRIZ理论有一个全面的认识,这里就不再详细分析了。 


以上就是专利规避设计的一些小技巧,赛贝知识产权平台提醒大家,企业还需要对专利规避设计的新方案进行专利风险的排查,若发现存在新的专利侵权风险,则需要继续进行新一轮的规避设计工作流程,如此反复,直到新的规避设计方案不存在专利侵权风险为止。如果大家对此还有任何疑问,也可免费咨询赛贝知识产权平台专利顾问,赛贝知识产权平台提供专业的专利规避设计服务,可对您的专利申请进行有针对性的调整和完善,帮助您顺利取得专利授权书。


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